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应用材料公司推出首款全自动SEM缺陷评测系统

2021-11-28 13:49上一篇:分析:中国机械制造巨头国际并购提速 |下一篇:没有了

本文摘要:SEMVision G5系统为半导体生产带给突破性的全自动技术能力 无以媲美的1纳米像素尺寸保证出众的图像质量 在22纳米关键布图膜层以最低的速率评测适当缺失,以较慢提升成品率 2011年12月7日,上海——近日,应用材料公司发售Applied SEMVisiontrade; G5系统,沿袭了其在SEM 缺失评测技术领域的领导地位。该系统是首款使芯片制造商在需要人工干预下自动光学和分析生产环境中制约芯片成品率的20纳米级别缺失的设备。

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SEMVision G5系统为半导体生产带给突破性的全自动技术能力  无以媲美的1纳米像素尺寸保证出众的图像质量  在22纳米关键布图膜层以最低的速率评测适当缺失,以较慢提升成品率  2011年12月7日,上海——近日,应用材料公司发售Applied SEMVisiontrade; G5系统,沿袭了其在SEM 缺失评测技术领域的领导地位。该系统是首款使芯片制造商在需要人工干预下自动光学和分析生产环境中制约芯片成品率的20纳米级别缺失的设备。以1纳米的像素尺寸辨识并光学适当缺失的独有能力使SEMVision G5系统需要协助逻辑芯片和存储器客户提升生产效率,比以往任何时候都更慢更加定地找到造成缺失的根本原因。

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  业界出色的1纳米像素尺寸、无以媲美的图像质量和强劲的分析引擎,使SEMVision G5沦为需要在最不具挑战性的布图膜层中辨识、分析并找到缺失,同时还能提高产量的唯一DR-SEMii系统。除此之外,该系统还在辨识错报或骚扰缺失方面竖立了新的标杆。

测试找到,该系统不仅比专业操作员更准更慢,还能使客户在单位时间内更加常常地检测更好的硅片,减缓自学周期、较慢提升成品率。  突破性的SEMVision G5系统使用开放式结构平台,需要将来自硅片检测系统的数据与一系列预先原作的缺失评测策略展开动态融合。该系统可自动创立新的缺失评测步骤,与针对每种待检测芯片类型而花费时间手动创立缺失评测步骤的同类设备比起,这是个关键优势。

该性能对于芯片代工客户至关重要,他们每年要生产数千种新的设计的芯片,必需较慢构建低成品率。  “SEMVision G5系统卓越的光学能力和全自动模式需要为我们的客户带给竞争优势,协助他们延长产品转入市场的时间,这是符合当今瞬息万变电子产业较短产品周期拒绝的关键。” 应用材料公司副总裁兼工艺临床及掌控事业部总经理Itai Rosenfeld回应,“我们早已向客户交付给了多套SEMVision G5系统,还取得了新增订单。

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客户的很快使用证明了该产品的价值,以及对我们在此关键芯片生产技术领域长达13年领导地位的接纳。”   应用材料公司(纳斯达克:AMAT)是一家全球领先的高科技企业。应用材料公司的创意设备、服务和软件被普遍应用于先进设备半导体芯片、平板表明和太阳能光伏产品生产产业。

我们的技术使智能手机、平板电视和太阳能面板等创意产品以更加普及、极具价格优势的方式惠及全球商界和普通消费者。在应用材料公司,我们应用于今天的创意去成就明天的产业。欲了解更加多信息,请求采访www.appliedmaterials.com。


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